小型等离子清洗机

时间: 2024-04-25 13:25:14 |   作者：贝博足球app平台

  清华大学调研了众多等离子表面处理设备，最终选择了上海沛沅生产的Pluto-T等离子清洗机/表面处理机。按照每个客户的技术方面的要求，提供了能够完全满足老师所有技术参数要求的Pluto-T等离子清洗机/表面处理机，以下为该设备的安装调试图。

  2020年12月，上海交通大学采购我司PLUTO-MC沉积镀膜设备。该设备是采用13.56MHz射频，涂覆面积为150*150mm，具备良好的稳定性与可重复性。

  电子科技大学已采购多台等离子设备，包括PLUTO-T等离子清洗机，PLUTO-MD等离子去胶机等，用户反馈良好。主要涉及的应用有：晶圆光刻胶的去除、电子半导体样品表面有机物的去除、多功能微纳结构宽带吸收器的表面处理等等。

  台式真空等离子清洗机的应用场景范围十分普遍，如半导体芯片、LED芯片、MEMS元件、薄膜太阳能电池等微型器件。在这一些器件的制作的完整过程中，往往需要对表明上进行清洁、去除杂...

  在现代实验室中，保持实验器具的清洁和消毒至关重要。传统的清洁方法可能没办法去除污垢和微生物，因此，慢慢的变多的实验室开始使用先进的技术，如等离子清洗技术。实验室等离子清洗机利用等离子体技术，通过产生高能离子和自由基来清洁和消毒表面。其工作原理最重要的包含以下几个步骤：1.等离子体生成：清洗机内部产生等离子体，一般会用氧气、氮气或氩气等气体作为工作气体。2.离子和自由基反应：高能离子和自由基会与表面上的有机物、微生物等进行化学反应，破坏其结构并去除污垢。3.清洗和消毒：等离子体处理后，...

  等离子清洗特点是不分处理对象的基材类型，均可做处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能很好地进行超清洗。

  等离子清洗机可用于晶圆或者电路板表面的光刻胶去除，以及去除光学元件、半导体元件表面的光阻材料等。

  表面改性-用于高分子材料表面修饰、PDMS微流控芯片键合、玻璃等，增强表面粘附性、浸润性、相容性；

  等离子刻蚀是干法刻蚀中常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。